華測儀器 HCLD-2低壓相比電痕化指數(shù)測試儀

價格僅供參考，如需獲取更詳盡的產(chǎn)品技術規(guī)格書、定制方案或應用案例，歡迎致電我司技術工程師

HCLD-2低壓相比電痕化指數(shù)測試儀由華測儀器生產(chǎn)，是根據(jù)耐漏電起痕試驗（電痕化指數(shù)試驗）的標準，規(guī)定的模擬仿真試驗項目。電痕化是指固體絕緣材料在電應力和電解雜質的聯(lián)合作用下，在表面（或內部）產(chǎn)生導電通道。

產(chǎn)品特點

1.帶有濾波、隔離變壓器、穩(wěn)壓變壓器

2.自動化程度高

3.帶有排風口

4.具有數(shù)據(jù)數(shù)顯、存儲功能

5.具有過流保護、過壓保護、門限保護等

產(chǎn)品參數(shù)

1.試驗電壓：100V~1000V（可定制）

2.控制方式：12寸觸摸屏控制系統(tǒng)

3.滴液高度：30~40mm 連續(xù)可調

4.試驗電壓壓降：≤5%

5.電極距離：4.0mm±0.1mm，夾角 60°±5

6.電極壓力：1.0±0.05N(可調)

7.滴液間隔時間：1s ~ 999s

8.短接電流：1A

9.試驗艙材料：PC塑料

10.滴液大小：（20.0 ~ 23.0）mm3 連續(xù)可調

11.操控方式：12寸觸摸屏

12.電極材料：電極頭鉑金

13.試驗終止：50滴或100滴或漏電流≥0.5A并維持時間≥2s

14.供電電源：220V 50Hz 10A